含表面活性剂和螯合剂的清洗液对硅片表面的影响

摘要：

本文介绍了一种含表面活性剂和螯合剂 的新型清洗剂和清洗技术.利用红外吸收谱和X-ray光电子谱,把它和标准RCA清洗技术做了比较.测量和比较了用两种清洗技术清洗过的硅片表面.测试结果表明,它们都在硅片表面产生一层薄二氧化硅.两种清洗技术都在硅片表面产生有机碳污染,但新型清洗技术产生的在机碳污染少于标准RCA清洗方法.

关键词： 硅片清洗 清洗剂 清洗工艺 半导体 红个吸收谱 光电子谱

作者: 曹宝成 于新好 马洪磊

作者单位: 山东大学光电材料与器件研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国电工技术学会电力电子学会第七次全国学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 107-110

在线出版日期: 2000-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）