硅研磨片表面的预清洗

摘要：

该文提出硅研磨片的预清洗工艺，就是在磨片清洗之前的前置处理。用高压喷洗 、超声波平超和助洗 剂浸泡等方法，以使硅研磨片清洗一次成品率较大幅度的提高。

关键词： 硅片 研磨片 表面 预清洗

作者: 郭生贵 蒋建国 郝美功

作者单位: 单晶硅有限责任公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年全国半导体硅材料学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 110～111

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）