关键词： 硅片 清洗 工艺
作者: 董慧燕
作者单位: 有钯金属研究总院
会议类型: 国内会议
会议名称: 1998年全国半导体硅材料学术会议
会议地点: 上海
会议语种:中文
页码: 31～38
在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）