硅传感器反应离子刻蚀的观察

关键词： 硅传感器 反应离子 刻蚀技术

作者: 唐圣明 陈国琴

作者单位: 中国科学院上海冶金研究所信息功能材料国家重点实验室(上海) 中国科学院上海冶金研究所传感技术国家重点实验室(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一次全国电子显微学会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 583～584

在线出版日期: 2000-06-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）