硅外延雾缺陷和背面多晶硅对雾缺陷的吸除作用

关键词： 硅 外延 雾缺陷 多晶硅 吸除

作者: 闵靖 邹子英 陈一 李积和 姚保纲

作者单位: 市计量测试技术研究院材料分析室 大学材料科学研究所 硅材料厂

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年全国半导体硅材料学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 161～164

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）