硅抛光片表面微粗糙度测量的初步探讨

关键词： 硅 抛光片 表面 粗糙度 测量

作者: 杨灏 严学俭 陆明

作者单位: 硅材料厂 大学材料系

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年全国半导体硅材料学术会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 254～258

在线出版日期: 1998-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）