硅刻蚀过程中的原位拉曼光谱研究--溶液pH值的影响

关键词： 硅 硅刻蚀 拉曼光谱 pH值

作者: 刘峰名 任斌 毛秉伟 田中群

作者单位: 大学化学系固体表面物理化学国家重点实验室物理化学研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第10届分子光谱学术报告会

会议地点: 呼和浩特

会议语种:中文

页码: 135～136

在线出版日期: 1998-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）