会议专题

硅/锗/硅键合新技术的研究

该文分析了研究了亲水键合法存在的问题,发明了硅/锗/硅合新方法。试验研究了新方法的机理、键合工艺技术和键合强度,键合率以及与亲水键合方法的对比。

硅/锗/硅 亲水键合 工艺

刘玉岭 张文智 徐晓辉 张德臣 张志花

工业大学微电子研究所

国内会议

1998年全国半导体硅材料学术会议

上海

中文

153~157

1998-09-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)