光致抗蚀剂薄膜在光刻掩膜制作中的应用

摘要：

该文介绍光致抗蚀剂薄膜在光刻掩模制作中的一种新的应用，即用光致抗蚀剂薄膜来制作光刻用的衰减相移掩模。介绍这种新方法的原理和制作工艺，并将制作的光致抗蚀剂衰减相移掩模用于krF准分子激光投影光刻曝光实验，得出了显著提高光刻分辨力的实验结果。

关键词： 光致抗蚀剂 薄膜 光刻掩模 衰减相移掩模 分辨力

作者: 侯德胜 孙方

作者单位: 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七届全国固体薄膜学术会议

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 190～192

在线出版日期: 2000-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）