光学邻近效应的产生机理分析

摘要：

基于部分相干成像理论,考虑了投影曝光系统成像的非线性滤波特点,分析了投影光邻近效应(OPE)产生的机理,模拟了掩模上线条的线宽、线间距的变化对光刻质量的影响.

关键词： 光学邻近效应 光学邻近校正 分辨力 非线性空间滤波

作者: 石瑞英 郭永康 曾阳素 黄晓阳

作者单位: 四川大学物理系(成都) 中国科学院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会全息与光信息处理专业委员会2000年学术年会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 127-129

在线出版日期: 2000-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）