准分子激光光刻技术及其发展

摘要：

该文论述了光刻技术的发展及光刻极限，着重对准分子激光光刻技术及其发展态势进行了比较深入的讨论。

关键词： 光学光刻 准分子激光光刻 深紫外光刻

作者: 冯伯儒 侯德胜

作者单位: 科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国半导体集成电路、硅材料学术会议

会议地点: 大连

会议语种:中文

页码: 298～302

在线出版日期: 1999-09-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）