光敏剂诱导化学镀镍过程的交流阻抗研究

摘要：

在光敏剂存在下,光照条件下可发生化学镀反应,阻抗图谱表现出现一个容抗环和一个吸附环,吸附是H<,2>PO<,2>在反应过程中的吸附.

关键词： 光敏剂 交流阻抗 化学镀镍

作者: 杨玉国 许韵华 孙冬柏 杨德钧

作者单位: 北方科技大学表面科学与腐蚀工程系(北京) 北京科技大学表面科学与腐蚀工程系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第五届全国化学镀会议

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 155-156

在线出版日期: 2000-09-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）