一种简单的衰减相移掩摸

摘要：

本文介绍了一种与传统Cr掩摸制作工艺相兼容的单层衰减相移掩摸的结构、原理和制作方法,提供了部分实验结果.

关键词： 光刻 相移掩摸 衰减相掩摸

作者: 张锦 郭永康 四川大学物理系(成都) 张锦 冯伯儒 侯德胜 周崇喜 姚汉民 陈芬 孙方 苏平

作者单位: 四川大学物理系(成都) 中科院光电所微细加工光学技术国家重点实验室成都双流

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会全息与光信息处理专业委员会2000年学术年会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 82-84

在线出版日期: 2000-07-28（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）