用衰减相移掩技术改善光刻质量

摘要：

介绍了衰减相移掩模用于提高光刻分辨率的原理，给出了结构形式，介绍了与传统Ｃｒ掩模制作工艺相兼容的单层衰减相移掩模的制作方法，提供了部分实验结果。

关键词： 光刻 相移掩模 衰减相移掩模

作者: 张锦 冯伯儒 陈福山

作者单位: 院光电所微细加工光学技术国家重点实验室(成都) 工业总公司771研究所,(陕西临潼)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 394～397

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）