用固相反应法在硅基底上形成金属硅化物的研究与评价

摘要：

对ｎ－Ｓｉ（１００）基底上蒸发的锰薄膜，通过固相反应法作成ＭｎＳｉ与ＭｎＳｉ〈，１．７〉薄膜。具体的说就是，经过对Ｍｎ（薄膜）／Ｓｉ（１００）系统进行各种温度不同时间的热处理，得出：大约４００℃左右、３０分钟的热处理得到了ＭｎＳｉ薄膜；大约６００℃左右、１小时的热处理得到了ＭｎＳｉ〈，１．７〉薄膜。对于制成的这两种硅化物薄膜，通过Ｘ射线衍射法（ＸＲＤ）和软Ｘ射线发射分光光谱法（ＳＸＥＳ）对它们进行了确定。

关键词： 固相反应合成法 硅化物 金属硅化物 锰硅化物 X射线衍射分析 X射线发射分光光谱法 薄膜 锰硅薄膜

作者: 王金良 王天民

作者单位: 航空航天大学理学院材料物理与化学研究中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 393～396

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）