多晶硅注入ＢＦ〈，２〉〈’＋〉对ＣｏＳｉ〈，２〉特性的影响

关键词： 钴的硅化物 ＢＦ〈，２〉〈’＋〉注入 多晶硅 薄层电阻 高温稳定性

作者: 罗葵 高玉芝 王玮 孙玉秀 刘诗美

作者单位: 大学微电子学研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 长沙

会议语种:中文

页码: 169～172

在线出版日期: 1999-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）