PSII工业样机用平面磁控溅射靶设计及工艺实验

摘要：

根据全方位离子注入(PSII)工业样机实验和应用的需要，由等效电流磁场计算法获得的数据结果，设计了一种平面磁控溅射靶。并利用此平面磁控靶在一定的Ar、 N<,2>气体分压及不同电流、电压条件下，成功地制备出金黄色氮化钛薄膜，并利用台阶轮廓仪测量了TiN薄膜的沉积速率，表明该靶TiN薄膜的沉积速率能满足增强沉积TiN涂层的需要。

关键词： 工业样机 平面磁控测射靶 沉积速率

作者: 穆莉兰 童洪辉 霍延峰

会议类型: 国内会议

会议名称: ”99全国荷电粒子源粒子束学术会议

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 254～257

在线出版日期: 1999-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）