W/BDD薄膜电极制备及其电化学性能研究
利用化学气相沉积(CVD)法研制了一种钨基硼掺杂金刚石(W/BDD)薄膜电极,通过扫描电镜和Raman 光谱考察了W/BDD 薄膜电极的性能,通过电化学方法测定了其在LiCl-KCl 熔盐中的电化学窗口和电化学性能.结果 表明,研制的W/BDD 薄膜电极的BDD 薄膜有较好的微观结构；W/BDD薄膜电极在LiCl-KCl 熔盐中的电化学窗口约为3.5 V(-2.5～1.0 V,相对于Ag/AgCl 参比极电位)；电解过程中,氧离子不与W/BDD 薄膜电极表面BDD 薄膜层的碳反应,直接被氧化为氧原子；长时间电解不会改变电极表面薄膜层的形貌和结构.
硼掺杂金刚石 电极 氧离子 电解
肖益群 程仲平 林如山 贾艳虹 何辉
中国原子能科学研究院放射化学研究所,北京 102413 中国原子能科学研究院放射化学研究所,北京 102413;东华理工大学,江西南昌 330013
国内会议
上海
中文
745-750
2019-09-17（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）