Effect of Gas Block on Removed Irregular Pore Layer for Porous InP by Chemical Etching

作者: ZhanKun Weng Chunmei Li Mingxue Dong Miaomiao Yu Zuobin Wang

作者单位: International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China

会议类型: 国内会议

会议名称: 第9届纳米操纵、制造与测量国际会议

会议地点: 江苏镇江

会议语种:英文

页码: 37-37

在线出版日期: 2019-08-04（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）