会议专题

预处理对共沉淀Si3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体的影响

  利用FTIR、SEM,TEM等手段,研究了预处理对Si3N4粉体表面基团、Zeta电位以及共沉淀法制备Si3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体形貌的影响.结果表明:Si3N4粉体通过酸洗+950℃预氧化处理后,可以在粉体表面形成硅氧烷(Si-O-Si)基团,硅氧烷基团在强碱环境下水解为硅烷醇(Si-OH)基团,所得基团有利于吸附Al+和Y+离子;预处理使粉体的等电点向左偏移,当酸洗+950℃预氧化处理后,粉体的pHIEP<2,粉体Zeta电位在pH=9时达到-65 mV;酸洗+950℃预氧化处理后共沉淀粉体经过950℃煅烧可以制备出S3N4-Al2O3-Y2O3复合粉体,其中复合粉体中Al2O3和Y2O3的颗粒尺寸在20~100 nm.

酸洗 预氧化 氮化硅 共沉淀

叶超超 姜岩 茹红强 岳新艳 王伟

东北大学材料各向异性与织构教育部重点实验室,辽宁沈阳110819

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第二十届全国高技术陶瓷学术年会

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2018-09-12(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)