深振荡磁控溅射复合沉积CrN/TiN超晶格薄膜的结构和性能
分别采用深振荡磁控溅射(deep oscillation magnetron sputtering,DOMS)复合脉冲直流磁控溅射(pulsed dc magnetron sputtering,PDCMS)技术和单一的PDCMS技术,沉积厚度为2μm、调制周期为6.3 nm的CrN/TiN超晶格薄膜.利用XRD、SEM和TEM表征薄膜的结构.利用纳米压痕仪、划痕仪和空气电阻炉分别测试薄膜的力学性能、结合力和热稳定性.利用球-盘式摩擦磨损试验机测试薄膜的摩擦学性能.利用阳极极化实验测试薄膜在3.5％(质量分数)NaCl溶液中腐蚀性能.研究表明,与单一的PDCMS技术相比,DOMS+PDCMS复合技术显著改善了 CrN/TiN超晶格薄膜结构,薄膜具有更优异的力学性能、持久的耐磨减摩性和抗腐蚀性能.
CrN/TiN超晶格薄膜 深振荡磁控溅射 脉冲直流磁控溅射 摩擦磨损 腐蚀
欧伊翔 潘伟 雷明凯
清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084;大连理工大学表面工程实验室,辽宁大连116024 清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084 大连理工大学表面工程实验室,辽宁大连116024
国内会议
呼和浩特
中文
330-334
2018-09-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）