高纯钨溅射靶材制取工艺研究

摘要：

微电子技术、光电技术对钨的纯度要求越来越高，熔炼钨纯度离但尺寸规格小且加工难度大。仅对采用粉未冶盖法制取高纯钨材工艺试验过程中，重新氨溶，中和结晶的除杂效应进行了一些探讨，对经高真空高温处理后的钨方坯加工性能进行了加工试验，证明采用重新氨溶、中和结晶、超高真空高温脱气工艺可有效地去除杂质。高纯钨材质优良、性能稳定、放气量小。

关键词： 高纯钨 氨溶 中和结晶 超高真空高温脱气

作者: 郭让民

作者单位: 有色金属研究院(西安)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国难熔金属学术交流会

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 70～72

在线出版日期: 1998-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）