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第十三届全国电介质物理、材料与应用学术会议
第十三届全国电介质物理、材料与应用学术会议
总文献量: 61篇
会议类型: 国内会议
会议地点: 成都
主办单位: 中国物理学会
会议日期: 2010-11-25
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氮化硅介质薄膜的反应离子刻蚀研究
戴丽萍 王姝娅 钟志亲 束平 王刚 张国俊
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