直流磁控反應濺鍍NiCr-CN薄膜性能研究

摘要：

本文采用直流磁控溅射技术在不锈钢304基体上沉积NiCr-CN膜层。利用扫描电镜(SEM)、电子能谱(EDS)和辉光放电发射光谱仪(GD-OES)分别对膜层微观形貌及成分-深度分布进行分析;采用显微维氏硬度计及洛氏硬度计测评薄膜机械性能。结果表明：采用直流磁控溅射可沉积出表面光滑、颜色均匀、附着力与韧性较好之NiCr-CN薄膜，其硬度和附着性能优化参数组合为功率3000W，偏压20V，C2H2流量20sccm,N2流量40sccm。

关键词： NiCr-CN膜层 直流磁控溅射技术 微观形貌 材料性能

作者: 陳正士 徐華陽 陳曉強 馬闖

作者单位: 富士康科技集團華南檢測中心金屬材料實驗室，廣東 深圳 518109

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届华东三省一市真空学术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 343-346

在线出版日期: 2009-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）