H62黄铜在电解质溶液中的脱锌腐蚀机制研究

摘要：

应用光电化学方法和Mott-Schottky分析技术研究了H62黄铜在0.1％wt硫酸钠和氯化钠两种电解质溶液中的脱锌机制.结果表明,H62黄铜在0.1％wt硫酸钠溶液中为溶解-再沉积的脱锌机制,而在0.1％wt氯化钠溶液中为锌的优先溶解机制.黄铜脱锌前,由于氯离子的侵蚀,表面氧化亚铜层的光量子效率降低.在硫酸钠溶液中,黄铜脱锌前后表面膜层均为p型半导体;而在氯化钠中,黄铜脱锌前表面膜层为p型半导体,脱锌后表面膜层为n型半导体.

关键词： 光电化学 Mott-Schottky分析 H62黄铜 脱锌腐蚀机制 优先溶解 溶解-再沉积

作者: 王超 钟庆东 周国治 鲁雄刚 陈朝轶

作者单位: 上海大学材料科学与工程学院,上海 200072 上海大学材料科学与工程学院,上海 200072 北京科技大学冶金与生态工程学院,北京 100083 上海大学材料科学与工程学院,上海 200072 贵州大学材料科学与冶金工程学院,贵州 贵阳 550003

会议类型: 国内会议

会议名称: 2008年全国冶金物理化学学术会议

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 354-358

在线出版日期: 2008-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）