傅里叶合成法设计渐变折射率薄膜

摘要：

傅里叶合成方法是一种可以根据期望的光谱特性曲线设计渐变折射率薄膜的方法.叙述了该方法的原理和Q函数的选择.介绍了修正方法使设计膜层折射率在可获得薄膜材料折射率范围内和把膜层匹配到入射介质和基底两端界面的技术.并用该方法设计ZnSe基底3～12 μm红外增透渐变折射率薄膜,在设计波段平均透射率达到95％.最后对该方法作了相关评论。

关键词： 傅里叶合成法 渐变折射率薄膜 薄膜材料 膜层匹配 Q函数 光谱特性

作者: 鄢秋荣 黄伟 张云洞

作者单位: 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209;中国科学院研究生院,北京,100039 中国科学院光电技术研究所,四川,成都,610209

会议类型: 国内会议

会议名称: 2007年激光技术发展与应用学术交流会

会议地点: 长春

会议语种:中文

页码: 415-419

在线出版日期: 2007-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）