电介质保护膜对磁光记录膜的磁和磁光特性的影响

摘要：

采用射频磁控溅射制备了非晶TbTeCo薄膜及其保护层AIN薄膜,并研究保护层对薄膜的磁和磁光特性的影响.结果表明,AIN薄膜可以增强薄膜磁光效应,同时,AIN薄膜对TbTeCo磁光薄膜的娇顽力、垂直磁各向异性以及本征克尔角都有一定的影响.其原因来自于溅射过程中N和Al原子对TbTeCo薄膜表面的轰击而导致的界面特性的改变.

关键词： TbTeCo薄膜 AIN保护层 矫顽力 垂直磁各向异性 本征克尔角

作者: 熊锐 金明桥 刘海林 汤五丰 石兢

作者单位: 武汉大学物理系(武汉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国真空学会薄膜技术学术交流会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 209-212,220

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）