电子探针真空镀膜仪镀碳效果研究
电子探针是一个被广泛使用的现代分析技术，它主要的功能是矿物主量元素的精确测定。本研究以日本电子株式会社生产的JEE-420真空镀膜仪为例。通过理论模拟计算和实际实验效果对比，讨论真空镀膜仪内不同位置镀碳效果。在理论模拟计算部分里，想要知道某个点的碳膜厚度，可以把这个点看作是以喷射点为中心，喷射点到它的距离为半径的一个球上的点。消耗的碳完全且均匀地分布在这个球上。只要知道了一次镀膜过程中所消耗的碳的体积，就可以利用公式算出该点碳膜的厚度。通过改变消耗的碳的体积，使不同高度的喷射点的正下方的碳膜厚度相近，约为31nm，模拟了在不同高度的情况下距离喷射点正下方不同距离（d/mm）位置上的碳膜厚度（x/nm）。同时可以得出结论：距离喷射点越远，镀膜厚度越小；喷射点高度越高，则摆放距离对于碳膜厚度的影响越小。
矿物分析 电子探针 真空镀膜仪 碳膜厚度 摆放距离
张若曦 杨水源
中国地质大学(武汉)地质过程与矿产资源国家重点实验室,湖北 武汉 430074
国内会议
长沙
中文
1121-1122
2015-12-11（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）