离子刻蚀矩形位相光栅衍射特性研究

摘要：

本文采用微电子工艺的光刻、离子刻蚀等技术制作用于高密度光盘数据存储系统光学拾取头中分束的位相光栅，并对制得样品进行轮廓形貌和衍射特性测试。这种方法能够有效地控制位相调制深度，从而使得制作的位相光栅满足实际系统的要求。

关键词： 光学拾取头 位相光栅 离子刻蚀 衍射特征

作者: 陈洪璆 王杰波 曹向群

作者单位: 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室,杭州,310027

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国光学学会2004年学术大会

会议地点: 杭州

会议语种:中文

在线出版日期: 2004-04-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）