利用HFCVD简易装置制备纳米金刚石薄膜研究

摘要：

纳米金刚石薄膜具有金刚石薄膜和纳米材料的双重特性,其应用前景广阔.本论文通过改装得到一套适用于HFCVD的简易制膜设备,制备出了纳米金刚石薄膜.并对影响薄膜生长的压强、衬底温度、沉积时间进行了讨论.

关键词： 纳米金刚石薄膜 纳米材料 HFCVD 薄膜生长 衬底温度 沉积时间

作者: 方静华 项金钟 信思树 朱艳 杨海刚 吴兴惠

作者单位: 云南大学材料科学与工程系(云南昆明)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国新型炭材料学术研讨会

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 393-397

在线出版日期: 2003-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）