用湿法刻蚀技术制作衍射光学元件

摘要：

研究了氢氟酸(HF)湿法刻蚀石英玻璃的化学机理,探索了针对衍射光学元件制作的刻蚀工艺,得到相关实验规律和工艺参数.最后对实验误差进行定量分析,得到湿法刻蚀的可控精度.

关键词： 衍射光学元件 湿法刻蚀 刻蚀速率 氢氟酸

作者: 周礼书 敬守勇 杨李茗 杨春林

作者单位: 成都精密光学工程研究中心(四川成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第四届全国光学学术会议

会议地点: 四川绵阳

会议语种:中文

页码: 169-172

在线出版日期: 2002-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）