溅射沉积光伏材料—掺氮碳薄膜

摘要：

本文介绍了离子束溅射,石墨靶,沉积掺氮碳薄膜的设备及工艺.对薄膜沉积过程作了讨论,采用XPS技术对薄膜成份、原子间和掺杂原子的键以及结合能作了研究,在(111)单晶硅片上沉积掺氮碳薄膜,构成C/Si异质结,在100mw/cm<”2>光照下,开路电压达200mv.

关键词： 掺氮碳薄膜 C/Si异质结 薄膜太阳电池 薄膜沉积 离子束溅射 X-射线能谱仪

作者: 丁正明 周之斌 崔容强 胡宏勋 孙铁囤 贺振宏

作者单位: 上海交通大学分析测试中心(上海) 上海交通大学物理系太阳能研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 中国第六届光伏会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 152-154

在线出版日期: 2000-10-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）